產(chǎn)品中心
當(dāng)前位置:首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 脫硝激光氨逃逸 > 氨逃逸 > TK-1100氨注入量的控制氨逃逸可以解決的問(wèn)題
簡(jiǎn)要描述:氨注入量的控制氨逃逸可以解決的問(wèn)題TK-1100型氨逃逸在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)采用高溫伴熱抽取技術(shù),對(duì)脫硝過(guò)程中的逃逸氨進(jìn)行連續(xù)在線監(jiān)測(cè),系統(tǒng)由取樣及傳輸單元、預(yù)處理及控制單元、分析單元三部分構(gòu)成,主要應(yīng)用于眾多工業(yè)領(lǐng)域氣體排放監(jiān)測(cè)和過(guò)程控制,例如:燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠、玻璃廠等。
產(chǎn)品分類(lèi)
相關(guān)文章
詳細(xì)介紹
品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) |
---|---|---|---|
應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,石油,建材,冶金 |
氨注入量的控制氨逃逸可以解決的問(wèn)題
一、產(chǎn)品概述(煙氣氨逃逸在線監(jiān)測(cè)分析儀系統(tǒng)(高溫抽取激光))
脫硝氨逃逸一體化在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)(TK-1100型)是由我公司榮譽(yù)出品,本系統(tǒng)包括預(yù)處理系統(tǒng)、氣體分析儀和數(shù)據(jù)處理與顯示三大部分。本系統(tǒng)取樣方式為在位式高溫伴熱抽取。本系統(tǒng)基本原理是基于紫外差分吸收光譜(DOAS)技術(shù)及可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜(TDLAS)技術(shù);紫外差分吸收光譜技術(shù)原理為,同種氣體在不同光譜波段有不同的吸收,不同氣體在同一光譜波段的吸收疊加作用,通過(guò)對(duì)連續(xù)光譜做算法分析,可同時(shí)測(cè)量多種氣體,有效避免各組分相互干擾;激光光譜氣體分析技術(shù)已經(jīng)廣泛應(yīng)用到對(duì)于靈敏度、響應(yīng)時(shí)間、背景氣體免干擾等有較高要求的各種氣體監(jiān)測(cè)領(lǐng)域。
本公司生產(chǎn)的脫硝氨逃逸一體化在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)(TK-1100型)耐用且易于安裝,特別適用于眾多環(huán)保及工業(yè)過(guò)程氣體排放監(jiān)測(cè),包括燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠等。
二、氨逃逸形成及危害
2.1 氨逃逸的形成
在大規(guī)模燃燒礦物燃料的領(lǐng)域,例如燃煤發(fā)電廠,都安裝了前燃(pre-combustion)或后燃(post combustion)NOX 控制技術(shù)的脫硝裝置,后燃NOX 控制技術(shù)可以是選擇性催化還原法(SCR) 也可以是選擇性非催化還原法(SNCR),但是無(wú)論應(yīng)用哪種方法,基本原理都是一樣的,即都是通過(guò)往反應(yīng)器內(nèi)注入氨與氮氧化物發(fā)生反應(yīng),產(chǎn)生水和N2。注入的氨可以直接以NH3 的形式,也可以先通過(guò)尿素分解釋放得到NH3 再注入的形式,無(wú)論何種形式,控制好氨的注入總量和氨在反應(yīng)區(qū)的空間分布便可以的降低NOX 排放。
氨注入的過(guò)少,就會(huì)降低還原轉(zhuǎn)化效率,氨注入的過(guò)量,不但不能減少NOX 排放,反而因?yàn)檫^(guò)量的氨導(dǎo)致NH3 逃逸出反應(yīng)區(qū),逃逸的NH3 會(huì)與工藝流程中產(chǎn)生的硫酸鹽發(fā)生反應(yīng)生成硫酸銨鹽,且主要都是重硫酸銨鹽。銨鹽會(huì)在鍋爐尾部煙道下游固體部件表面上沉淀,例如沉淀在空氣預(yù)熱器扇面上,會(huì)造成嚴(yán)重的設(shè)備腐蝕,并因此帶來(lái)昂貴的維護(hù)費(fèi)用。在反應(yīng)區(qū)注入的氨分布情況與NO和NO2 的分布不匹配時(shí)也會(huì)出現(xiàn)氨逃逸現(xiàn)象,高氨量逃逸的情況伴隨著NOX 轉(zhuǎn)化效率降低是一種非常糟糕的現(xiàn)象和很?chē)?yán)重的問(wèn)題。
2.2氨逃逸的危害
(1)逃逸掉的氨氣造成資金的浪費(fèi),環(huán)境污染;
(2)氨逃逸將腐蝕催化劑模塊,造成催化劑失活(即失效)和堵塞,大大縮短催化劑壽命;
(3)逃逸的氨氣,會(huì)與空氣中的SO3生成硫酸氨鹽(具有腐蝕性和粘結(jié)性)使位于脫銷(xiāo)下游的空預(yù)器蓄熱原件堵塞與腐蝕;
(4)過(guò)量的逃逸氨會(huì)被飛灰吸收,導(dǎo)致加氣塊(灰磚)無(wú)法銷(xiāo)售;
三、規(guī)格與技術(shù)參數(shù)
指標(biāo) | 測(cè)量范圍 | 0-10.0ppm,0-50.0ppm 可根據(jù)用戶需求設(shè)定 |
響應(yīng)時(shí)間 | <20s | |
線性誤差 | <1%F.S | |
零點(diǎn)漂移 | 可忽略 | |
重復(fù)性 | 1%F.S | |
標(biāo)定 | 出廠時(shí)已標(biāo)定,無(wú)需定期標(biāo)定 | |
輸入和輸出信號(hào) | 模擬量輸出 | 4-20mA電流環(huán),750ΩMax,隔離 |
報(bào)警輸出 | 濃度超限、溫度異常、系統(tǒng)故障均報(bào)警 | |
繼電器輸出 | 2路(可擴(kuò)展),觸點(diǎn)負(fù)載24V,2A | |
通訊接口 | RS485,雙端隔離 | |
工作條件 | 環(huán)境溫度 | (-20)~50℃ |
保護(hù)等級(jí) | IP54 | |
工作電壓 | 200V-240VAC,50Hz | |
電源功耗 | ≤3000W | |
預(yù)熱時(shí)間 | 1小時(shí) | |
伴熱溫度 | 180℃~240℃ | |
采樣流量 | 2~20L/min(可根據(jù)用戶需求定制) | |
尺寸 | 機(jī)柜 | 1000×1200×600mm(默認(rèn)尺寸) |
四、氨逃逸系統(tǒng)流路簡(jiǎn)介
本系統(tǒng)的流路主要由測(cè)量流路、反吹流路、標(biāo)定流路及渦旋制冷流路組成,具體流路示意圖如下:
系統(tǒng)進(jìn)入測(cè)量狀態(tài)后,電動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)帶動(dòng)兩通球閥切換到采樣氣路,在引流泵的作用下,被測(cè)氣體經(jīng)由探頭桿、,兩通球閥、二級(jí)過(guò)濾器進(jìn)入NH3模塊,NH3模塊利用吸收技術(shù)(TDLAS)對(duì)氣體進(jìn)行分析,得到NH3的濃度(高溫?zé)釢穹ǎ?,后排空?/p>
系統(tǒng)定時(shí)會(huì)進(jìn)入校準(zhǔn)狀態(tài)進(jìn)行自動(dòng)調(diào)零,此時(shí)兩通球閥切換到校準(zhǔn)氣路,校準(zhǔn)電磁閥打開(kāi),在引流泵的作用下,環(huán)境空氣經(jīng)過(guò)濾器、校準(zhǔn)電磁閥后進(jìn)入氣體室,對(duì)氣體室中殘留的被測(cè)氣體進(jìn)行吹掃,吹掃干凈后,對(duì)NH3進(jìn)行一次調(diào)零;系統(tǒng)定時(shí)會(huì)進(jìn)入反吹狀態(tài)對(duì)采樣探頭進(jìn)行反吹,此時(shí)兩通球閥切換到反吹氣路,反吹電磁閥打開(kāi),系統(tǒng)自動(dòng)控制反吹電磁閥開(kāi)或關(guān),實(shí)現(xiàn)對(duì)探頭過(guò)濾器的反吹。
氨注入量的控制氨逃逸可以解決的問(wèn)題
hz
產(chǎn)品咨詢(xún)